产品特点· 新型CCD全谱接收技术· 高性能,低功耗,全谱分析· 更优化的双光室光学系统设计· 可编程脉冲全数字光源技术· 可分析Fe、AI、Cu、Zn、Ni、Ti、Mg、Co等多种基体· 波长范围140-680nm,可满足更多元素的分析要求 应用领域铸造 冶金 机械加工 消防 航空航天 金属加工 金属材料 质量鉴定 新材料开发M5000 CCD全谱火花直读光谱仪是冶金炉前快速定量分析、金属材料质量监控的得力助手,其分析精度可满足实验室级别的要求,数据稳定可靠,被广泛应用于冶金、铸造、机械加工等行业的来料检验、质量控制及出厂检验等。◆炉前快速分析 ◆产品质量控制 ◆材料验收检查 ◆科研 ◆其他万条谱线,全元素尽可展现 M5000可采集全谱信息,测量近万条谱线,分析范围广,可用的分析灵敏线更多,能够测定金属分析行业需要分析的元素。 与通道式光谱仪相比,M5000免除了选择通道的烦恼,以更低的成本,获取对更多元素的分析检测能力。 分析准,产品质量可靠 M5000可智能选择合适的灵敏线进行分析,科学地避开相邻元素干扰、高含量自吸等因素的影响,获取更准确的分析结果。扩展性优,助力企业升级 M5000的硬件设计支持全谱分析检测,用户可随时在任意现场增加分析基体和元素,无需更改硬件便能扩展分析范围。 M5000方便实用的扩展性能更好地满足企业未来拓展业务范围的需要,是企业灵活升级的得力助手。 稳定可靠,操作方便快捷 利用全谱丰富的谱线信息,M5000可运用背景扣除、干扰扣除、漂移校正等高级算法,从而更好地监控仪器运行状态,提高了分析的准确性和仪器的稳定性。 同时智能校正技术取代了传统的描迹校正,仪器操作简单,方便易用,校正效果更好。智能可靠的全数字光源 可编程脉冲合成全数字光源,性能好,免维护 适用于激发各种合金材料,有利于提高分析精度 方便节能的样品激发台 开放式样品激发台,适于分析不同几何形状的大/小样品 氩气气路优化设计,使激发效果更好 氩气节约模式,有效降低氩气用量 安装与维护简单便捷 稳定光学系统 帕型-龙格光学结构,多个高性能的CCD探测器 可实时监控的恒温光室,使光学系统稳定 双光室设计 双光室(紫外+可见)设计,同时使长短波元素分析性能令人满意 独立的紫外光学系统使仪器对碳、磷、硫、氮等短波元素的分析更准确智能曲线 智能曲线功能,可满足对基体内材料的分析需求 智能链接适当的曲线模型,获得更准确的分析结果 实现未知样品分析,无需纠结模型选择,使操作更加简便 质量判断 根据用户的测量标准,可自由设定元素成分质量控制的上下限 自动判断样品成分是否超标,结果一目了然 牌号识别 可对未知材质分类,帮助用户快速鉴定样品牌号 当量分析 可自由编辑碳当量、耐腐蚀当量公式,掌控材料特性 自动系统诊断 软件界面实时呈现仪器运行状态 准时提醒仪器维护与清理时间项目指标检测基体Fe、Al、Cu、Zn等多种基体合金的成分测量(根据客户需求填写)检测时间试样品类型而定,一般30s左右光学系统帕型-龙格可选型号F型;N型;S型工作电源(220±20)V AC,(50±1)Hz,保护性接地的单相电源EMCIEC61000-4-2,IEC61000-4-4,IEC61000-4-5工作温度(10~30)℃存储温度(0~45)℃工作湿度20%~80%氩气纯度要求99.999%氩气进口压力0.5MPa氩气流量激发流量约3.5L/min,维持流量约0.4L/min,待机流量约0.1L/min,尺寸长726mm,宽622.5mm,高546.5mm重量约80kg激发*大功率400VA待机平均功率50VA光源类型脉冲合成全数字光源(可编程脉冲全数字光源)放电频率*高1000 Hz放电电流*大400A引燃点火脉冲1~14kV火花激发脉冲20~230V电弧激发脉冲20~60V激发台孔径13mm
M4000全谱直读光谱仪,结合了光室密封氩气循环技术,可分析Fe、Al、Cu等多种基体。为炉前快速定量分析、金属材料质量监控、科研院所研究开发提供解决方案。产品秉承精工于内、大道至简的理念,致力于成为您金属分析的得力助手。◆冶金 ◆铸造 ◆金属加工 ◆金属材料质量鉴定 ◆新材料开发 ◆其他M4000技术性能智能可靠的全数字光源 可编程脉冲合成全数字光源,性能好,免维护 适用于激发各种合金材料,有利于提高分析精度 方便节能的样品激发台 开放式样品激发台,内部体积进一步缩小,使得氩气消耗更低 四路氩气吹扫,可有效移除残留粉尘,降低激发台维护量 稳定光学系统 帕型-龙格光学结构,多个高性能的CCD探测器 可实时监控的恒温光室,使光学系统稳定 个性化的样品夹具 可适用于分析不同几何形状的大/小样品 人性化的一键激发 样品装载激发一气呵成,直接得到终结果 适应工厂检测环境,有效提升工作效率 实时智能漂移校正技术 在分析过程中实时进行光谱漂移校正,增强仪器稳定性 减少标准化校正次数,延长校正周期 自动完成仪器校正,操作更加简便智能曲线 智能曲线功能,可满足对基体内材料的分析需求 智能链接适当的曲线模型,获得更准的分析结果 实现未知样品分析,无需纠结模型选择,使操作更加简便 质量控制 根据用户的测量需求,可自由设定元素成分质量控制的上下限 自动判断样品成分是否超标,结果一目了然 牌号识别 可对未知材质分类,帮助用户快速鉴定样品牌号 当量分析 可自由编辑碳当量、耐腐蚀当量公式,掌控材料特性 自动系统诊断 软件界面实时呈现仪器运行状态 准时提醒仪器维护与清理时间
产品简介ARTUS 10 是阿朗品牌创始人60年光谱仪从业经验及英国阿朗30多年技术积累的结晶,使用高精度定制A-CMOS作为检测器(可制冷)的旗舰型直读光谱仪。CMOS传感器与制冷技术的结合,标志着ARTUS10产品对高分析性能的无限追求,可轻松达到1ppm的检测下限,不用漂移校正,重新定义了直读光谱仪的稳定性。阿朗致力于满足用户精益求精的金属材料分析需求,从毫厘之间为用户创造效益。产品特点A-Care远程云服务,重新定义易用性(选配)光谱仪+互联网,A-Care云服务。实现云端互联,即时自动通报设备异常,远程软件升级、维护。功能模块图形化设计,软件操作简单易用,一目了然。切换控样类型无需重新加载模型,单一界面完成日常操作。不需漂移校正,重新定义稳定性压铸铝合金整体光室,4级应力消除处理。RTMC光谱优化技术。光室恒温设计,使光谱检测长期稳定,不漂移。气流路的设计,一切为了结果更稳定。双光学系统设计双光学系统设计,光谱范围宽、分辨率高。紫外波段元素 (N、P、S、C) 独立光室分析。无真空泵运动部件,光室无形变及油污风险。高检测灵敏度A-CMOS检测器结合双光学系统,可达百万分之一 (1ppm) 的检测下限。可选型号特殊定制A-CMOS传感器可带来性能1.采用A-CMOS感光元件,带来更高的灵敏度。2.定制8192像素检测器,提升检测系统光学分辨率。3.采用OEO (Optimal Element-Oriented) 技术,可对任意像素位置信号单独提取,实现每个元素独立参数优化与采集分析。4.A-CMOS传感器对紫外波段元素 (C、P、S、N) 灵敏度更高。特定算法,实现A-CMOS较佳检测性能1.OEO、RTMC算法,更好的发挥A-CMOS检测性能。2.智能匹配火花放电波形,实现不同特性元素的较佳检测效果。3.智能消除背景干扰,实现较佳分析性能。4.采用ASR技术,剥离异常火花,提升分析精度。技术参数:
英国阿朗技术公司一直注重产品的研发和创新,继M2500系列产品取得巨大成功后,相继推出了PolySpek 和ARTUS 8系列金属分析仪。ARUN ARTUS 8台式金属分析仪做为英国阿朗公司推出的新一代CCD光谱产品,继续保持了英国阿朗在CCD金属光谱仪分析领域的地位。 ARUN ARTUS 8台式金属分析仪采用帕邢龙格多CCD光学系统,可用于铸造、来料检验、质量控制、废品回收等金属材料及金属产品分析的各个方面。ARUN ARTUS 8台式金属分析仪的分析性能更高,分析速度更快,延续了上一代的标准工厂校准曲线,可广泛应用于黑色及其他有色金属分析。1. 光学系统a) 双光室设计,凹面光栅帕邢龙格光学系统b) 精密恒温控制,控制精度±0.1℃c) CCD检测器d) 氩气净化光室,断电断气自动密闭功能,无真空泵带来的噪音和油污风险 2. 激发光源a) 数字化激发源,无辅助电极,免维护b) 200多种放电参数c) 频率:0-1000Hz 3. 火花台a) 开放式激发台,具有样品放置检测功能,操作便捷安全b) 氩气消耗低c) 维护简单,维护无需拆卸外壳d) 全铜火花台设计,满足高强度连续分析散热要求 4. 操作软件a) 适用于Windows XP/7/8/10操作系统b) 标准工厂校准程序c) 自动校正元素谱线间的干扰d) 可显示单次或多次分析结果e) 分析结果同时显示平含量、标准偏差和相对标准偏差值f) 具有牌号鉴别功能g) 用户可用随机标样进行系统标准化h) 可图表显示材料组分i) 系统自动存储分析结果并可检索数据j) 具有远程网络服务功能 5. 尺寸和重量a) 尺寸:长721mm,宽780mm,高440mmb) 重量:80Kg 6. 仪器工作环境a) 工作温度:10~30℃b) 工作湿度: 20-80% 7. 技术参数项目指标检测基体可分析Fe、Al、Cu、Mg、Ni、Zn等多基体合金成分检测时间视样品类型而定,一般30s左右光学系统Paschen-Runge工作电源90~260V AC 50/60Hz,保护性接地的单相电源工作温度10~30(℃)存储温度10~70(℃)工作湿度(20~80)%RH氩气纯度要求≥99.999%氩气进口压力(0.45~0.65)MPa氩气流量分析流量3.0L/min尺寸长721mm,宽780mm,高440mm重量主机80kg激发台孔径13mm
电感耦合等离子体发射光谱仪历经近半个世纪的发展,不断推陈出新,升级换代。早期商业化的ICP-OES产品,主要以它激式射频电源产生等离子火焰,以光电倍增管作为检测器,进行光谱采集。随着技术的进步和半导体器件的快速发展,第二代ICP-OES主要以自激式射频电源作为发生器,以CID、CCD、CMOS等光电转换器件为采集单元,进行全谱采集。当前主流ICP-OES大多采用此类配置。秉承“未来实验室的探索者”责任与使命,新一代EXPEC 6500型ICP-OES ,在RF射频电源、大面阵检测器应用、等离子炬焰观测方式等核心技术方面形成新飞跃。并支持全谱高分辨率要求的稀土分析和深紫外波段的Cl/Br元素分析。同时,拓展多种易用功能与智能化辅助设备,组成智能化分析系统,能够帮助操作者提高效率,从纷繁重复的工作中解脱出来,将时间用于创造更高的价值,乐享生活。设计的垂直炬管双向观测技术,降低氩气消耗和炬管消耗,可以实现在复杂基体下,同时测量高低含量相差较大的元素。其中,垂直炬管避免高盐沉积,径向观测避免基体干扰,以此获得更好的灵敏度和重复性;自激式全固态RF 射频电源,使设备具有更好的样品适应性和稳定性,即使直接进有机样品甚至空气,也不会熄火,完全省去油品等有机样品的前处理制备过程;大面阵ECCD 传感器,其低噪声、深紫外响应结合防溢出设计,使EXPEC 6500具有良好的检出限,大面阵设计仪器实现全谱一次采集,快10s完成72种元素分析;通过高精密温度梯度场仿真,风道流体力学仿真,结合反复实践验证,优化内部结构设计,使设备具有较好的环境温度耐受性。结合RF 电源,进样系统等多处关键部件的稳定性设计,具有约8 小时RSD<1%的稳定性;为EXPEC 6500配套开发了样品智能前处理系统,从样品称量开始, 到出结果等一系列过程,“一键式”智能处理,不需要人工参与;1、光学系统● 稳定的全固定中阶梯光栅分光系● 恒温三维光学系统● 像元级制冷的专有大面阵ECCD检测器,一次曝光,像元级制冷● 全谱实时校准技术(FSC)● 智能积分设计,使高低含量元素可以同时检测● 可扩展深紫外Cl/Br分析功能 2、等离子体● 等离子体观察方式:垂直矩管双向观测(EXPEC 6500D型),垂直矩管径向观测(EXPEC 6500R型)● RF发生器:全固态发生器,直接耦合、自动调谐● 更宽的功率范围,功率可调● iStandby模式:提供500W超低功率待机,降低氩气消耗50%以上● 具有轴向衰减和径向衰减功能,可衰减100倍以内浓度的样品 3、进样系统● 炬管:可拆卸式炬管,快速插拔式连接● 雾化器:石英同心雾化器● 雾化室:石英旋流雾化室● 可选配耐高盐或耐HF的进样系统● 集成气路全自动控制,采用精密质量流量控制器控制雾化气、辅助气、冷却气和可扩展的附加气体(O2和Ar)*多五路气体的流 量,精确检控CCD吹扫气 4、分析软件● 适用于Windows XP和Windows 7操作系统● 图形化操作界面,软件操作方便、直观,具有定性、半定量、定量分析功能● 基于分类和版本的方法库管理软件,便于方法的管理、维护和传承;内置部分标准方法,有助于提高分析效率● 具有同时记录所有元素谱线全谱数据采集功能,支持分析数据保存和检索功能,方便日后再分析● 具有多种干扰校正方法和实时背景扣除功能● 具有仪器校准功能,支持炬管准直、光源优化等功能,方便用户日常维护;具有可视化的仪器运行状态监控(可选)● 具有登录口令保护,多级操作权限设置和网络安全管理,历史记录保存;● 软件设计符合电子签名管理的21 CFR Part 11管理法规,软件具有三级管理权限和审计追踪功能,符合3Q认证等法规要求。
EXPEC 6000系列电感耦合等离子体发射光谱仪。统一高可靠性的射频电源、稳固的恒温二维分光系统、制冷的防溢出高速CCD传感器、易用的炬室与进样系统,结合FSC光谱校正技术,Standby模式低功率待机等关键技术,致力于为用户带来良好的使用体验 经典的中阶梯光栅二维分光系统 背照式高速CCD采集器件 经典的中阶梯光栅二维分光系统 背照式高速CCD采集器件 多路数字质量流量控制器控制每一路氩气,控制精度约达0.01L/min,使测量数据的稳定。 高精度12转子4通道蠕动泵,稳定进样的同时,可根据需求加入内标溶液,标准加入溶液等,有利于复杂样品分析 全分体式炬管,自准直安装,针对不同的应用,仅需更换中心管即可,大幅降低成本 自动进样器 氢化物发生器 有机进样器 完备的方法库作为基础,降低使用者摸索新方法的时间 丰富的处理技术,支持标准加入法、内标法、定性半定量、干扰元素校正等多种分析方法 自适应积分算法,使得高低含量可达到较好的灵敏度 具有强大的扩展功能,支持与自动进样、顺序进样、数据库系统对接,适合现代实验室的分析测试需求 远程支持功能 1、光学系统● 中阶梯光栅二维分光系统● 百万像素背照式CCD探测器,3级TEC制冷● 耐环境温度变化● 双入缝设计,自动选择,保证长短波达到较佳分辨率● 光室恒温控制,恒温温度为36℃ 2、等离子体● 等离子体观察方式:双向观测(EXPEC 6000D型),垂直观测(EXPEC 6000R型)● RF发生器:全固态发生器,直接耦合、自动调谐● 自激式全固态射频电源,水冷散热● 冷锥接口,无需配置空气压缩机进行尾焰切割(EXPEC 6000D型)RF功率:700-1350W,连续可调,可达1600W(EXPEC 6000R型) 3、进样系统● 炬管:可拆卸式炬管,快速插拔式连接● 雾化器:石英同心雾化器● 雾化室:石英旋流雾化室● 可选配耐高盐或耐HF的进样系统● 集成气路全自动控制,采用精密质量流量控制器控制雾化气、辅助气、冷却气的流量,精确检控CCD吹扫气 4、分析软件● 适用于Windows XP和Windows 7操作系统● 图形化操作界面,软件操作方便、直观,具有定性、半定量、定量分析功能● 基于分类和版本的方法库管理软件,便于方法的管理、维护和传承;内置部分标准方法,有助于提高分析效率● 具有同时记录所有元素谱线全谱数据采集功能,支持分析数据保存和检索功能,方便日后再分析● 具有多种干扰校正方法和实时背景扣除功能● 具有仪器校准功能,支持炬管准直、光源优化等功能,方便用户日常维护;具有可视化的仪器运行状态监控(可选)● 具有登录口令保护,多级操作权限设置和网络安全管理,历史记录保存。
ICP-5000是聚光科技在多年光谱分析仪器研发经验基础上,推出ICP-OES产品。ICP-5000丰富的谱线库具有5万多条谱线可以选择,多元素的同步测量能力可以同时分析72个元素。在耳目一新的外观工业设计下,ICP-5000更包含了优化设计的中阶梯光栅二维分光系统、自激式全固态RF电源,定制的百万像素防溢出CCD和全自动谱图采集系统、氩气控制逻辑以及复杂的光室温控系统,使得ICP-5000具有高分辨率、大动态范围、高稳定性、低检出限等较佳的基因特点。产品介绍ICP 5000 — 用于常规分析,它设计紧凑、体积小、氩气消耗少,操作简单方便是当今很多实验室对仪器的关键要求。体积小而性能高,设计更加灵敏,稳定。聚光科技拥有实验室仪器研发经验。从经典的M5000电火花直读光谱仪到北京吉天的原子荧光光谱仪,带给您良好的仪器性能。这些设计经验孕育了聚光的icp 5000——兼具创新和精致的ICP光谱仪。◆ 打造可达约RSD≤0.5%的精密度◆ 精湛的工艺,实现约RSD≤2%的8小时强稳定性◆ 易用的软硬件设计,一切想你所想◆ 丰富的配件,灵活的配置和低消耗,让您后顾无忧维护量少◆ 耗材更换需求少 - 日常使用只需要更换泵管 - 采用可拆卸式炬管 - 炬管采用自准直安装,无需精确对准◆ 只需三步就可以拆下进样系统 - 松开雾化室架子,取下雾化室 - 取出炬管连接管 - 转动炬管座,取出炬管及炬管座强大的Element V分析平台◆ 专为国人设计的操作软件 - 风格的软件界面 - 层次化的软件界面,操作直观、便捷,可满足普通操作者、专业测试人员和科研专家等不同层次客户的使用需求 - 针对客户日常分析需求设计的“一键式”操作模式和“向导式”分析流程,有效提高分析效率 - 丰富的方法库和版本化的管理方式更利于方法的传承、学习和维护◆ 智能的软件算法和数据接口 - 拥有50000多条谱线的标准谱线数据库,方便用户选择更合适的分析谱线,减少谱线干扰 - 工作曲线扩展功能,时间扫描顺序分析,能够实现定性、定量分析 - 丰富的处理技术,支持标准加入法、内标法、半定量、干扰元素校正等分析方法 - 强大的扩展功能,能够与自动进样、顺序进样、数据库系统对接,适合现代实验室的分析测试需求 人性的方法库管理◆ Windows资源管理器风格的方法库管理界面◆ 详尽的方法信息和样品处理信息◆ 强大的结构化的历史方法检索工具多项措施降低氩气消耗◆ 智能光室吹扫 - 改变原有的氩气长流量吹扫方式,监控光室内氩气情况和分析条件的智能吹扫模式 - 光室严格密封,降低氩气泄漏量 - 自动氩气吹扫,根据使用情况,在开机阶段自动完成光室吹扫◆ 紧凑光室设计 - 光室内分布式多点吹扫,提高氩气置换效率 - 改进了光室和CCD模块内空间分布,消除了吹扫死区,提高置换效率◆ 改进的炬管设计 - 改变了炬管内结构,降低了冷却气消耗量,低仅需8L/min